记者２３日从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。

，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

微细图形加工技术是集成电路向高集成化发展的关键, 其中图形曝光对准是很主要的。由于接触式光刻机的精度高、设备造价低, 所以在集成电路制造中被广泛采用。但是, 随着大规模集

主要介绍了集成门极换流晶闸管(IGCT)的光刻技术。IGCT器件的光刻次数多，精度要求高，如何保证光刻质量是关键。根据IGCT光刻的特点，从光刻机的性能、光刻胶的选用以及刻

光刻机扫描曝光模型 扫描曝光过程的抽象模型如图 1 所示 。激光器发出的脉冲光束经过光路传输系统， 从开口大小可调的狭缝中投影到工件台上， 形成投影光斑 。当曝光场前沿与光斑前沿重合时 ，扫描开始

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元

最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？

中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。

国家863重大科技攻关计划，经过快20年的研发，中国光刻机技术进展如何？取得了哪些重大突破？ 01造光刻机需要哪些技术？ 虽然制造光刻机涉及的产业体系非常庞大，但简单来说，主要是两点。 首先，制造光刻机需要数万个零部件。 一台

荷兰作为光刻的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰光刻机为什么厉害，为何光刻机不卖给中国的原因。

光刻机研发成功，一举奠定了阿斯麦在高端EUV光刻机领域的垄断地位，EUV光刻机的精密程度已经达到给你图纸，也无可复制。

1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。

无独有偶，在中科院宣布介入光刻机研发之后，ASML宣布将在中国加大布局。阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波近日对媒体表示：“ASML在中国已有700多台光刻机的装机，几乎所有主要芯片生产厂商都有我们的服务。

谈起光刻机相信大家首先想到的是荷兰，确实如此，荷兰光刻机在全球都是数一数二的，就连最顶尖的光刻机制造公司ASML也位于荷兰，二荷兰光刻机之所以这么出名，很大程度是由于荷兰在这方面下了很大的功夫，比如技术投入、研发团队以及资金投入都是其他国家难以比拟的。

在晶圆代工龙头台积电将于2020年正式量产5纳米制程，而竞争对手三星也在追赶的情况下，目前两家公司也在积极研发更先进的3纳米制程。这些先进半导体制程能研发成功，且让未来生产良率保持一定水准，光刻机绝对是关键。

，光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划，经过快20年的研发，中国光刻机技术进展如何？取得了哪些重大突破？造光刻机需要哪些技术？虽然制造光刻机涉及的产业体系非常庞大，但简单来说，主要是两点。首先，制造

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就

在芯片制造环节中，光刻机是核心设备。没有光刻机，半导体或遭断链危机，摩尔定律将停止，人类也就无法设计、制造和封装硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麦）的荷兰公司市场占有率达80%，是行业的绝对

ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在，而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎，无奈一些关键细节上被美国卡死。 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机，特别是 EUV （极紫外光源）光刻机

国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”11月29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造更高级别的芯片。

顶级光刻机有多难搞？美国曾有一位工程师感叹道：ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！

一份6.7亿卢布的合同来研发光刻机，并且宣称要研发比EUV光刻机光刻分辨率更高、不需要光掩膜版从而降低费用的无掩模X射线光刻机。 X射线光刻机不同于EUV光刻机，它使用了波长为0.01nm~10nm的X射线，所以X射线光刻机的光刻分辨率要

据CNBC报道称，世界闻名的先进光刻机智造商荷兰AMSL公司正在研发一种新版本的EUV光刻机。

中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。

在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。“我国EUV光刻机的自主研发还有很长的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的‘卡脖子’难题。”唐传祥说。

刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以刻蚀机不能代替光刻机。