刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以刻蚀机不能代替光刻机。

光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺，如上海微电子装备公司（CMEE）制程90nm工艺的光刻机，那么90nm光刻机能生产什么芯片呢？

主要介绍了集成门极换流晶闸管(IGCT)的光刻技术。IGCT器件的光刻次数多，精度要求高，如何保证光刻质量是关键。根据IGCT光刻的特点，从光刻机的性能、光刻胶的选用以及刻

微细图形加工技术是集成电路向高集成化发展的关键, 其中图形曝光对准是很主要的。由于接触式光刻机的精度高、设备造价低, 所以在集成电路制造中被广泛采用。但是, 随着大规模集

光刻机扫描曝光模型 扫描曝光过程的抽象模型如图 1 所示 。激光器发出的脉冲光束经过光路传输系统， 从开口大小可调的狭缝中投影到工件台上， 形成投影光斑 。当曝光场前沿与光斑前沿重合时 ，扫描开始

据中国证券报报道，3月6日下午从中芯国际获悉，日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机，但这是设备正常导入，用于产能扩充，并非外界所称的EUV光刻机。

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

中国是目前世界上消费芯片最多的国家，每年的芯片进口额已超过了石油的进口额。虽然中国芯片行业也已经取得了小有成就，但在世界上还是处于落后的水平，芯片的落后少不了因为光刻机的原因，那么光刻机的难度究竟在在哪里呢？

光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就

，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。

没有任何一个国家的人比中国人更想造出顶级光刻机。网友甚至表示，只要造出光刻机，无论一个人做错了什么都可以原谅。 因为光刻机，这种高精密芯片制造设备，是当前中国半导体的软肋。2002年，光刻机就被列入

光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后，也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。

光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。

光刻机作为芯片的核心制造设备，也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产，还可以用于封装和用于LED制造领域。

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元

在半导体的制造中，光刻机作为其中重要的组成部分，其技术非常复杂，价格也十分昂贵。 由于近期冲突，俄罗斯芯片进口遭严重限制，在其国内没有光刻机的情况下，俄罗斯贸工部选择了与俄罗斯莫斯科电子技术学院签署

以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何？ ● 晶圆为什么是圆的？ ● 不同制程的芯片之间有何区别？ ● 什么是逻辑芯片，逻辑芯片又包括哪些？ ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院

1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。

顶级光刻机有多难搞？美国曾有一位工程师感叹道：ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！

荷兰阿斯麦公司作为掌握光刻机系统集成和整体架构的核心企业，自然成了欧美自家的小棉袄，顺利赶上了欧美EUV技术研究发展的风口，投资德国卡尔蔡司，收购美国Cymer光源。集成世界各国顶尖科技的EUV

最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？

月4日，中芯国际深圳厂区成功从ASML进口了一台大型光刻机，目前该台光刻机设备已经顺利进入深圳厂区，但让人遗憾的是这台光刻机并非是最先进的EUV光刻机设备；据悉，中芯国际所购买的这台光刻机设备，将会

荷兰作为光刻的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰光刻机为什么厉害，为何光刻机不卖给中国的原因。

作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机（Mask

光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。

光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢？